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  • Unidade: IF

    Subjects: MICROELETRÔNICA, DISPOSITIVOS ELETRÔNICOS, DIFRAÇÃO POR RAIOS X, NANOTECNOLOGIA

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    • ABNT

      MORELHÃO, Sergio Luiz et al. Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning. . Oxford: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0412254.pdf. Acesso em: 27 abr. 2024. , 2020
    • APA

      Morelhão, S. L., Avanci, L. H., Freitas, R., & Quivy, A. A. (2020). Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning. Oxford: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Recuperado de https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0412254.pdf
    • NLM

      Morelhão SL, Avanci LH, Freitas R, Quivy AA. Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning [Internet]. 2020 ;[citado 2024 abr. 27 ] Available from: https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0412254.pdf
    • Vancouver

      Morelhão SL, Avanci LH, Freitas R, Quivy AA. Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning [Internet]. 2020 ;[citado 2024 abr. 27 ] Available from: https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0412254.pdf
  • Unidade: IF

    Assunto: DIFRAÇÃO POR RAIOS X

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    • ABNT

      AVANCI, L H et al. On the high accuracy lattice parameters determination by n-beam diffraction: Theory and application to the InAs quantum dots grown over GaAs(001) substrate system. . São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0411508.pdf. Acesso em: 27 abr. 2024. , 2020
    • APA

      Avanci, L. H., Remedios, C. M. R., Quivy, A. A., & Morelhão, S. L. (2020). On the high accuracy lattice parameters determination by n-beam diffraction: Theory and application to the InAs quantum dots grown over GaAs(001) substrate system. São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Recuperado de https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0411508.pdf
    • NLM

      Avanci LH, Remedios CMR, Quivy AA, Morelhão SL. On the high accuracy lattice parameters determination by n-beam diffraction: Theory and application to the InAs quantum dots grown over GaAs(001) substrate system [Internet]. 2020 ;[citado 2024 abr. 27 ] Available from: https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0411508.pdf
    • Vancouver

      Avanci LH, Remedios CMR, Quivy AA, Morelhão SL. On the high accuracy lattice parameters determination by n-beam diffraction: Theory and application to the InAs quantum dots grown over GaAs(001) substrate system [Internet]. 2020 ;[citado 2024 abr. 27 ] Available from: https://arxiv.org/pdf/cond-mat/0411508.pdf
  • Source: Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. Unidade: IF

    Subjects: VÁCUO, FILMES FINOS

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    • ABNT

      LOPES, K C et al. Caracterização de filmes finos de nitreto de índio formados por deposição assistida por feixe de íons. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, v. 25, n. 1, p. 55-58, 2006Tradução . . Disponível em: http://www.sbvacuo.org.br/rbav/revistavol252/25_2_55.pdf. Acesso em: 27 abr. 2024.
    • APA

      Lopes, K. C., Matsuoka, M., Mittani, J. C. R., Avanci, L. H., Chubaci, J. F. D., Sucasaire, S., et al. (2006). Caracterização de filmes finos de nitreto de índio formados por deposição assistida por feixe de íons. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, 25( 1), 55-58. Recuperado de http://www.sbvacuo.org.br/rbav/revistavol252/25_2_55.pdf
    • NLM

      Lopes KC, Matsuoka M, Mittani JCR, Avanci LH, Chubaci JFD, Sucasaire S, Salvadori MCB da S, Leite JR, Freitas JA. Caracterização de filmes finos de nitreto de índio formados por deposição assistida por feixe de íons [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. 2006 ; 25( 1): 55-58.[citado 2024 abr. 27 ] Available from: http://www.sbvacuo.org.br/rbav/revistavol252/25_2_55.pdf
    • Vancouver

      Lopes KC, Matsuoka M, Mittani JCR, Avanci LH, Chubaci JFD, Sucasaire S, Salvadori MCB da S, Leite JR, Freitas JA. Caracterização de filmes finos de nitreto de índio formados por deposição assistida por feixe de íons [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. 2006 ; 25( 1): 55-58.[citado 2024 abr. 27 ] Available from: http://www.sbvacuo.org.br/rbav/revistavol252/25_2_55.pdf
  • Source: Resumos. Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada. Unidades: IF, IQ

    Subjects: MATÉRIA CONDENSADA, FILMES FINOS, SEMICONDUTORES, FEIXES

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    • ABNT

      LOPES, K. C. et al. Caracterização de filmes finos de nitreto de índio formados por deposição assistida por feixe de íons. 2005, Anais.. São Paulo: Sociedade Brasileira de Física, 2005. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxviii/sys/resumos/R1205-1.pdf. Acesso em: 27 abr. 2024.
    • APA

      Lopes, K. C., Matsuoka, M., Sucasaire, W., Mittani, J. C. R., Avanci, L. H., Chubaci, J. F. D., et al. (2005). Caracterização de filmes finos de nitreto de índio formados por deposição assistida por feixe de íons. In Resumos. São Paulo: Sociedade Brasileira de Física. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxviii/sys/resumos/R1205-1.pdf
    • NLM

      Lopes KC, Matsuoka M, Sucasaire W, Mittani JCR, Avanci LH, Chubaci JFD, Salvadori MCBS, Leite JR, Sant'Ana AC de, Temperini MLA, Freitas JA. Caracterização de filmes finos de nitreto de índio formados por deposição assistida por feixe de íons [Internet]. Resumos. 2005 ;[citado 2024 abr. 27 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxviii/sys/resumos/R1205-1.pdf
    • Vancouver

      Lopes KC, Matsuoka M, Sucasaire W, Mittani JCR, Avanci LH, Chubaci JFD, Salvadori MCBS, Leite JR, Sant'Ana AC de, Temperini MLA, Freitas JA. Caracterização de filmes finos de nitreto de índio formados por deposição assistida por feixe de íons [Internet]. Resumos. 2005 ;[citado 2024 abr. 27 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxviii/sys/resumos/R1205-1.pdf
  • Source: Resumos. Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada. Unidade: IF

    Subjects: MATÉRIA CONDENSADA, FILMES FINOS, FEIXES, ÍONS

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    • ABNT

      SUCASAIRE, W et al. Estudo de filmes finos de nitreto de carbono preparados com o método de deposição assistida por feixe de íons. 2005, Anais.. São Paulo: Sociedade Brasileira de Física, 2005. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxviii/sys/resumos/R0819-1.pdf. Acesso em: 27 abr. 2024.
    • APA

      Sucasaire, W., Matsuoka, M., Lopes, K. C., Mittani, J. C. R., Avanci, L. H., Chubaci, J. F. D., et al. (2005). Estudo de filmes finos de nitreto de carbono preparados com o método de deposição assistida por feixe de íons. In Resumos. São Paulo: Sociedade Brasileira de Física. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxviii/sys/resumos/R0819-1.pdf
    • NLM

      Sucasaire W, Matsuoka M, Lopes KC, Mittani JCR, Avanci LH, Chubaci JFD, Added N, Trava V, Corat E J. Estudo de filmes finos de nitreto de carbono preparados com o método de deposição assistida por feixe de íons [Internet]. Resumos. 2005 ;[citado 2024 abr. 27 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxviii/sys/resumos/R0819-1.pdf
    • Vancouver

      Sucasaire W, Matsuoka M, Lopes KC, Mittani JCR, Avanci LH, Chubaci JFD, Added N, Trava V, Corat E J. Estudo de filmes finos de nitreto de carbono preparados com o método de deposição assistida por feixe de íons [Internet]. Resumos. 2005 ;[citado 2024 abr. 27 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxviii/sys/resumos/R0819-1.pdf
  • Source: Microelectronics Journal. Unidade: IF

    Subjects: MICROELETRÔNICA, DISPOSITIVOS ELETRÔNICOS, DIFRAÇÃO POR RAIOS X, NANOTECNOLOGIA

    PrivadoAcesso à fonteAcesso à fonteDOIHow to cite
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    • ABNT

      MORELHÃO, Sérgio Luiz et al. Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning. Microelectronics Journal, v. 36, n. 3-6, p. 219-222, 2005Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.mejo.2005.02.010. Acesso em: 27 abr. 2024.
    • APA

      Morelhão, S. L., Avanci, L. H., Freitas, R., & Quivy, A. A. (2005). Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning. Microelectronics Journal, 36( 3-6), 219-222. doi:10.1016/j.mejo.2005.02.010
    • NLM

      Morelhão SL, Avanci LH, Freitas R, Quivy AA. Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning [Internet]. Microelectronics Journal. 2005 ; 36( 3-6): 219-222.[citado 2024 abr. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mejo.2005.02.010
    • Vancouver

      Morelhão SL, Avanci LH, Freitas R, Quivy AA. Strain field of InAs QDs on GaAs(001) substrate surface: characterization by synchrotron X-ray renninger scanning [Internet]. Microelectronics Journal. 2005 ; 36( 3-6): 219-222.[citado 2024 abr. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mejo.2005.02.010
  • Source: Resumos. Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada. Unidade: IF

    Subjects: MATÉRIA CONDENSADA, POÇOS QUÂNTICOS

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    • ABNT

      FREITAS, R. O. et al. Strain field of InAs QDs on GaAs (001) substrates by synchrotron X-ray renninger scanning. 2005, Anais.. São Paulo: Sociedade Brasileira de Física, 2005. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxviii/sys/resumos/R0813-1.pdf. Acesso em: 27 abr. 2024.
    • APA

      Freitas, R. O., Morelhão, S. L., Quivy, A. A., & Avanci, L. H. (2005). Strain field of InAs QDs on GaAs (001) substrates by synchrotron X-ray renninger scanning. In Resumos. São Paulo: Sociedade Brasileira de Física. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxviii/sys/resumos/R0813-1.pdf
    • NLM

      Freitas RO, Morelhão SL, Quivy AA, Avanci LH. Strain field of InAs QDs on GaAs (001) substrates by synchrotron X-ray renninger scanning [Internet]. Resumos. 2005 ;[citado 2024 abr. 27 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxviii/sys/resumos/R0813-1.pdf
    • Vancouver

      Freitas RO, Morelhão SL, Quivy AA, Avanci LH. Strain field of InAs QDs on GaAs (001) substrates by synchrotron X-ray renninger scanning [Internet]. Resumos. 2005 ;[citado 2024 abr. 27 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxviii/sys/resumos/R0813-1.pdf
  • Source: Resumos. Conference titles: Encontro Nacional de Fisica da Matéria Condensada. Unidade: IF

    Subjects: MATÉRIA CONDENSADA, DIFRAÇÃO POR RAIOS X, CRISTALOGRAFIA

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    • ABNT

      AMARAL, Thaís G et al. Invariant phase determination by genetic algorithm. 2004, Anais.. São Paulo: SBF, 2004. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxvii/sys/resumos/R0472-1.pdf. Acesso em: 27 abr. 2024.
    • APA

      Amaral, T. G., Perrota, A. V., Avanci, L. H., & Morelhão, S. L. (2004). Invariant phase determination by genetic algorithm. In Resumos. São Paulo: SBF. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxvii/sys/resumos/R0472-1.pdf
    • NLM

      Amaral TG, Perrota AV, Avanci LH, Morelhão SL. Invariant phase determination by genetic algorithm [Internet]. Resumos. 2004 ;[citado 2024 abr. 27 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxvii/sys/resumos/R0472-1.pdf
    • Vancouver

      Amaral TG, Perrota AV, Avanci LH, Morelhão SL. Invariant phase determination by genetic algorithm [Internet]. Resumos. 2004 ;[citado 2024 abr. 27 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxvii/sys/resumos/R0472-1.pdf
  • Source: Journal of Applied Crystallography. Unidade: IF

    Subjects: DIFRAÇÃO POR RAIOS X, CRISTALOGRAFIA FÍSICA

    PrivadoAcesso à fonteAcesso à fonteDOIHow to cite
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    • ABNT

      MORELHÃO, Sérgio Luiz et al. Two-dimensional intensity profiles of effective satellites. Journal of Applied Crystallography, v. 35, p. 69-74, 2002Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1107/s0021889801018921. Acesso em: 27 abr. 2024.
    • APA

      Morelhão, S. L., Avanci, L. H., Quivy, A. A., & Abramog, E. (2002). Two-dimensional intensity profiles of effective satellites. Journal of Applied Crystallography, 35, 69-74. doi:10.1107/s0021889801018921
    • NLM

      Morelhão SL, Avanci LH, Quivy AA, Abramog E. Two-dimensional intensity profiles of effective satellites [Internet]. Journal of Applied Crystallography. 2002 ; 35 69-74.[citado 2024 abr. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1107/s0021889801018921
    • Vancouver

      Morelhão SL, Avanci LH, Quivy AA, Abramog E. Two-dimensional intensity profiles of effective satellites [Internet]. Journal of Applied Crystallography. 2002 ; 35 69-74.[citado 2024 abr. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1107/s0021889801018921
  • Source: Acta Crystallographica Section A. Unidade: IF

    Subjects: SEMICONDUTORES, DIFRAÇÃO POR RAIOS X, ÓPTICA ELETRÔNICA

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    • ABNT

      MORELHÃO, Sérgio Luiz e AVANCI, L H. Strength tuning of multiple waves in crystals. Acta Crystallographica Section A, v. 57, p. 192-196, 2001Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1107/s0108767300015774. Acesso em: 27 abr. 2024.
    • APA

      Morelhão, S. L., & Avanci, L. H. (2001). Strength tuning of multiple waves in crystals. Acta Crystallographica Section A, 57, 192-196. doi:10.1107/s0108767300015774
    • NLM

      Morelhão SL, Avanci LH. Strength tuning of multiple waves in crystals [Internet]. Acta Crystallographica Section A. 2001 ; 57 192-196.[citado 2024 abr. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1107/s0108767300015774
    • Vancouver

      Morelhão SL, Avanci LH. Strength tuning of multiple waves in crystals [Internet]. Acta Crystallographica Section A. 2001 ; 57 192-196.[citado 2024 abr. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1107/s0108767300015774
  • Source: Journal Crystal Growth. Conference titles: International Conference on Chemical Beam Epitaxy and Related Growth Techniques. Unidade: IF

    Assunto: CRISTALOGRAFIA

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    • ABNT

      AVANCI, L H et al. Mapping of Bragg-surface diffraction of InP/GaAs (100) structure. Journal Crystal Growth. Amsterdam: North-Holland. . Acesso em: 27 abr. 2024. , 1998
    • APA

      Avanci, L. H., Hayashi, M. A., Cardoso, L. P., Morelhão, S. L., Riesz, F., Rakennus, K., & Hakkarainen, T. (1998). Mapping of Bragg-surface diffraction of InP/GaAs (100) structure. Journal Crystal Growth. Amsterdam: North-Holland.
    • NLM

      Avanci LH, Hayashi MA, Cardoso LP, Morelhão SL, Riesz F, Rakennus K, Hakkarainen T. Mapping of Bragg-surface diffraction of InP/GaAs (100) structure. Journal Crystal Growth. 1998 ; 188( 1-4): 220-224.[citado 2024 abr. 27 ]
    • Vancouver

      Avanci LH, Hayashi MA, Cardoso LP, Morelhão SL, Riesz F, Rakennus K, Hakkarainen T. Mapping of Bragg-surface diffraction of InP/GaAs (100) structure. Journal Crystal Growth. 1998 ; 188( 1-4): 220-224.[citado 2024 abr. 27 ]
  • Source: Applied Physics Letters. Unidade: IF

    Assunto: FÍSICA

    Acesso à fonteDOIHow to cite
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    • ABNT

      MORELHÃO, S L et al. Observation of coherent hybrid reflection with synchrotron radiation. Applied Physics Letters, v. 73, n. 15, p. 2194-2196, 1998Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1063/1.122420. Acesso em: 27 abr. 2024.
    • APA

      Morelhão, S. L., Avanci, L. H., Hayashi, M. A., Cardoso, L. P., & Collins, S. P. (1998). Observation of coherent hybrid reflection with synchrotron radiation. Applied Physics Letters, 73( 15), 2194-2196. doi:10.1063/1.122420
    • NLM

      Morelhão SL, Avanci LH, Hayashi MA, Cardoso LP, Collins SP. Observation of coherent hybrid reflection with synchrotron radiation [Internet]. Applied Physics Letters. 1998 ; 73( 15): 2194-2196.[citado 2024 abr. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.122420
    • Vancouver

      Morelhão SL, Avanci LH, Hayashi MA, Cardoso LP, Collins SP. Observation of coherent hybrid reflection with synchrotron radiation [Internet]. Applied Physics Letters. 1998 ; 73( 15): 2194-2196.[citado 2024 abr. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.122420
  • Source: Applied Physics Letters. Unidade: IF

    Assunto: SEMICONDUTORES

    Acesso à fonteDOIHow to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      HAYASHI, M A et al. Sensitivity Bragg surface diffraction to analyze ion-implanted semiconductors. Applied Physics Letters, v. 71, n. 18, p. 2614-2616. 1997, 1997Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1063/1.120157. Acesso em: 27 abr. 2024.
    • APA

      Hayashi, M. A., Morelhão, S. L., Avanci, L. H., Cardoso, L. P., Sasaki, J. M., Kretly, L. C., & Chang, S. L. (1997). Sensitivity Bragg surface diffraction to analyze ion-implanted semiconductors. Applied Physics Letters, 71( 18), 2614-2616. 1997. doi:10.1063/1.120157
    • NLM

      Hayashi MA, Morelhão SL, Avanci LH, Cardoso LP, Sasaki JM, Kretly LC, Chang SL. Sensitivity Bragg surface diffraction to analyze ion-implanted semiconductors [Internet]. Applied Physics Letters. 1997 ; 71( 18): 2614-2616. 1997.[citado 2024 abr. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.120157
    • Vancouver

      Hayashi MA, Morelhão SL, Avanci LH, Cardoso LP, Sasaki JM, Kretly LC, Chang SL. Sensitivity Bragg surface diffraction to analyze ion-implanted semiconductors [Internet]. Applied Physics Letters. 1997 ; 71( 18): 2614-2616. 1997.[citado 2024 abr. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.120157

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